電子工業專用設備雜志

    主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所
    主管單位:中國電子科技集團公司

    電子工業專用設備雜志基本信息 部級期刊

    《電子工業專用設備》由葛勱翀擔任主編,由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的一本電子類部級期刊。該刊創刊于1971年。主要刊登電子學科方面有創見的學術論文,介紹有特色的科研成果,探討有新意的學術觀點提供交流平臺,擴大國內外同行學術交流。本刊為雙月刊,A4開本,全年定價¥256.00元。歡迎廣大讀者訂閱或投稿。

    基本信息:
    ISSN:1004-4507
    CN:62-1077/TN
    期刊類別:電子
    郵發代號:--
    全年訂價:¥ 256.00
    出版信息:
    創刊時間:1971
    出版地區:北京
    出版周期:雙月刊
    出版語言:中文
    主編:葛勱翀
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    電子工業專用設備雜志介紹

    《電子工業專用設備》是一本由中國電子科技集團公司主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的一本面向國內外公開發行的電子類期刊,該刊主要報道電子相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選部級期刊。 影響因子為0.3 《電子工業專用設備》主要內容欄目有先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養。

    《電子工業專用設備》主要發文機構有:中國電子科技集團公司第四十五研究所(發文量646篇),該機構主要研究主題為“半導體;光刻;晶圓;電機;拋光”;中國電子科技集團公司第二研究所(發文量229篇),該機構主要研究主題為“真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝”;中國電子科技集團公司第四十八研究所(發文量168篇),該機構主要研究主題為“電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入”。

    《電子工業專用設備》主要發文主題有半導體、電路、封裝、芯片、集成電路、晶圓、光刻、半導體設備、太陽能、半導體產業。其中又以”半導體(1260篇)”居于榜首,發文量第二的是“電路”(448篇),發文量第三的是“封裝”(436篇),發文主題最少的是“半導體產業”,僅發文166篇。

    電子工業專用設備影響力及榮譽

    電子工業專用設備投稿注意事項

    1、來稿要求:

    本刊歡迎下列來稿:電子及相關學科領域的研究方面的論著,反映國內外電子學術動態的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿,以及有指導意義的電子書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性,內容翔實,簡明扼要,重點突出,文字數據務求準確,層次清楚,標點符號準確,圖表規范,書寫規范。本刊不接受已公開發表的文章,嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件,編輯部將一律退稿,來稿確保不涉及保密、署名無爭議等,文責自負。

    2、作者簡介:

    述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等,字數以 100~300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜,格式為“.jpg”,像素不得低于 300 dpi。

    3、文題:

    文題力求簡明、醒目,反映文稿主題,中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題,中英文文題含義應一致。

    4、圖表:

    文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻中的圖表。圖表力求簡明,設計應科學,避免與正文重復。凡能用少量文字說明的數據資料盡量不用圖表。正文與表中數據應認真核對,準確無誤,表內數據同一指標的有效位數應一致。

    電子工業專用設備數據統計

    • 總發文量:1954
    • 總被引量:3109
    • 平均引文率:4.1825
    • H指數:17
    • 期刊他引率:0.8286
    主要發文機構分析
    機構名稱 發文量 主要研究主題
    中國電子科技集團公司第四十五研究所 646 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光
    中國電子科技集團公司第二研究所 229 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝
    中國電子科技集團公司第四十八研究所 168 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入
    中國電子科技集團公司第四十六研究所 118 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔
    電子工業部 115 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機
    北京中電科電子裝備有限公司 92 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝
    中華人民共和國工業和信息化部 75 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體
    中國電子科技集團公司 68 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片
    中國電子科技集團第十三研究所 66 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻
    中國科學院 54 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光
    主要資助項目分析
    資助項目 涉及文獻
    國家自然科學基金 39
    國家高技術研究發展計劃 37
    國家科技重大專項 29
    國家重點基礎研究發展計劃 7
    海南省自然科學基金 6
    湖南省自然科學基金 3
    國家火炬計劃 3
    國防基礎科研計劃 2
    電子信息產業發展基金 2
    國際科技合作與交流專項項目 2
    年度被引次數報告
    年度參考文獻報告

    電子工業專用設備文章摘錄

    • 電子膠粘劑行業揮發性有機污染物處理對策研究 作者:王志; 秦蘇瓊; 譚偉
    • 基于D類放大器的固態射頻電源研究 作者:孫小孟; 崔晨; 林亭廷; 趙麗莉; 李勇滔
    • 逐層刻蝕工藝在半導體器件制造中的應用 作者:張軼銘; 劉利堅
    • 荏原AAS100WN真空泵自主維護 作者:陳白冰; 黃曉許; 曹珂; 高曉生
    • 半導體設備回轉件設計中的動力學問題探究 作者:王勇威; 王文麗; 黃鑫亮; 胡天水; 王麗江
    • 低成本高可靠堆疊芯片封裝技術 作者:楊建生; 謝炳軒
    • 基板型電池保護電路封裝模具技術探討 作者:丁寧; 曹玉堂; 徐善林; 汪宗華; ; 張先兵
    • 微孔填充工藝在HTCC金屬化方面的研究 作者:王慧; 王亞君
    • 基于OpenCV的圓環Mark定位研究 作者:張葉; 靳衛國; 于朋揚
    • 自動檢測系統中圖像對準方法研究 作者:左寧; 胡曉霞
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