中國專利與商標雜志

中國專利與商標雜志介紹

《中國專利與商標》是一本由中國專利與商標雜志社主管，中國專利與商標雜志社主辦的一本面向國內外公開發行的政法類期刊，該刊主要報道政法相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選部級期刊。 影響因子為0.03 《中國專利與商標》主要內容欄目有業內信息、專題文章、專利、商標、商業秘密、知識産權制度、視角。

《中國專利與商標》主要發文機構有：國家知識產權局（發文量48篇），該機構主要研究主題為“專利法；專利權；利權；審查；侵權”；北京市第一中級人民法院（發文量46篇），該機構主要研究主題為“商標；糾紛；行政；糾紛案；法院”；北京市高級人民法院（發文量40篇），該機構主要研究主題為“民法；人民法院；法院；人民；高級人民法院”。

《中國專利與商標》主要發文主題有商標、法院、知識產權、民法、人民法院、產權、法律、侵權、專利法、行政。其中又以”商標（379篇）”居于榜首，發文量第二的是“法院”（358篇），發文量第三的是“知識產權”（348篇），發文主題最少的是“行政”，僅發文170篇。

中國專利與商標影響力及榮譽

• 維普收錄(中)
• 國家圖書館館藏
• 上海圖書館館藏

中國專利與商標投稿注意事項

1、來稿要求：

本刊歡迎下列來稿：政法及相關學科領域的研究方面的論著，反映國內外政法學術動態的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿，以及有指導意義的政法書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性，內容翔實，簡明扼要，重點突出，文字數據務求準確，層次清楚，標點符號準確，圖表規范，書寫規范。本刊不接受已公開發表的文章，嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件，編輯部將一律退稿，來稿確保不涉及保密、署名無爭議等，文責自負。

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述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等，字數以 100～300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜，格式為“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

3、文題：

文題力求簡明、醒目，反映文稿主題，中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題，中英文文題含義應一致。

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文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻中的圖表。圖表力求簡明，設計應科學，避免與正文重復。凡能用少量文字說明的數據資料盡量不用圖表。正文與表中數據應認真核對，準確無誤，表內數據同一指標的有效位數應一致。